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立手持式光譜儀X-MET8000系列在檢測高溫材料方面的應用

更新時間:2025-11-10      瀏覽次數:89

材料可靠性識別(PMI)檢查有時需要測試高溫下的在用組件,例如管道,反應容器等。不僅環境條件對用戶和儀器都提出了挑戰,所測試的合金通常還含有痕量水平的元素(例如Si,Mn,Cr,Cu)。這意味著用于合金檢測的儀器必須快速,堅固,即使在這些惡劣條件下也能提供**性能。

手持式X射線熒光光譜儀(HHXRF)****的發展使我們能夠應對這些挑戰。

HITACHI HIGH-TECH獨特的高溫樣品分析解決方案:全新 HERO™(耐熱)窗口膜

日立高新設計了一個全新的保護性窗口膜,可以直接分析高達400oC的高溫樣品中的合金元素,包括硅等輕元素!

在測試高溫樣品時,用戶所要做的就是將正常的Prolene窗口膜換成HERO™窗口! 不需要特殊的墊片或防護罩。

樣品制備

為確保準確的檢測結果,應清潔被測部件的表面。去除油漆、腐蝕和污垢時,建議使用配有鋯砂盤的角磨機。

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高溫樣品帶來了的挑戰:表面氧化速度非常快速,且高溫合金樣品的結構在高溫與冷卻時不同,因此如果測量相同的熱或冷合金,可能會看到成分的差異。

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測量程序

為了在高溫條件下獲得**可靠性,操作X-MET8000(配有HERO™窗口膜)非常重要,如圖所示。

例如,如果測量200°C的樣品,則可以使用的**測量時間為20秒。如果測量20秒,則分析之間的最小冷卻時間為3分鐘;如果測量10秒鐘,冷卻時間減少到1.5分鐘(90秒)。

簡單來說,溫度越高,測量時間越短,冷卻時間越長。

性能

配備HERO™窗口膜的X-MET8000 Expert用于測試不同溫度下樣品的準確度和精度。在室溫(22℃)下分析——系列參考低合金鋼樣品,然后將合金在爐中加熱,X-MET8000 Expert使用合金模式(LE FP分析,包括輕元素)在200,350和400℃下測試。

注意:在分析之前,樣品的表面沒有被研磨,以確保它們在測試前不會冷卻。然而,加熱樣品表面上的嚴重氧化對硅(Si)結果具有顯著影響,其氧化水平隨溫度而增加。

樣品在室溫和200℃下分析20秒,在350和400℃下分析15秒。二次分析之間將分析儀在室溫下放置6分鐘冷卻。

結果表明,即使在高溫下和較短的測量時間,也可以可靠地確定合金元素的含量。由于樣品表面的變化,Si測量結果會有所不同。這是高溫樣品測試中的主要挑戰,因為氧化過程在高溫下快速進行。

總結

X-MET8000手持式分析儀為材料可靠性識別(PMI)檢測以及制造質量保證提供快速可靠的材料識別和化學分析。借助Hitachi High-Tech獨特的HERO™窗口膜,X-MET可用于測試高達400°C的熱樣品,使用戶可以現場測試,并**限度地減少間隙時間。



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